据www.thelec.net报道，伊朗冲突引发霍尔木兹海峡航运受阻，导致日本光刻胶关键溶剂PGME与PGMEA严重短缺，已波及三星电子、SK海力士等韩国芯片制造商的光刻材料供应。
溶剂短缺波及光刻全流程材料
原文数据显示，当前紧缺的两种核心溶剂为丙二醇甲醚（PGME）和丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）。二者广泛用于半导体光刻工艺中的多种材料，包括光刻胶、稀释剂、底部抗反射涂层（BARC）、旋涂硬掩模（SOH）以及高带宽存储器用临时键合胶——基本覆盖全部光刻制程材料。一位业内人士将此次短缺比作“有咖啡粉却无水可冲”。
中东纳帕斯断供触发连锁反应
短缺根源在于纳帕斯（naphtha）供应中断。据原文报道，日本超40%的纳帕斯进口依赖中东，而霍尔木兹海峡在3月初事实上被封锁，导致中东纳帕斯进口归零。纳帕斯是炼油轻质油品，为丙烯、乙烯等石化中间体的关键原料。受此影响，日本12座纳帕斯裂解中心中已有6座减产。丙烯供应下滑进一步制约丙烯氧化物生产，而PGME与PGMEA均以丙烯氧化物为上游原料。
原文数据显示，日本纳帕斯现货价格从断供前约$600/吨飙升至4月初的$1,190/吨，涨幅达92%。
日企主导供应链面临系统性风险
日本光刻材料供应链高度本土化：大冢化学（Daicel）实现从丙烯氧化物到PGMEA的全链条生产；东曹（Toagosei）则使用陶氏（Dow）提供的原料精制PGMEA；最终由信越化学、东京应化、JSR、富士胶片、日产化学等企业加工成光刻胶等成品，出口至韩国。原文指出，这种“国内闭环”模式通常被视为优势，但一旦上游单一原料中断，整个链条将同步承压。
韩企加速替代与认证挑战并存
多家日本供应商已于4月21日开始向其韩国子公司通报原料采购困难，并计划于4月23日正式通知三星电子与SK海力士等客户。为缓解压力，日本厂商正考虑从韩国或中国采购PGME与PGMEA。但原文强调，任何原材料变更均需客户重新认证——三星电子与SK海力士对新溶剂的认证周期通常需约一年，先进制程节点耗时更长。
原文提到，韩国企业已在部分环节实现本地化：Chemtronics与嘉源工业（Jaewon Industrial）已建立PGMEA量产体系，并直接向日本厂商及三星电子供货。嘉源工业高管表示，尽管韩企供应链来源较多元（含美国与中国），但当前采购条件依然严峻。韩伍尔材料科学（HanWool Materials Science）则计划通过其子公司JK Materials，从中国主要供应商进口PGME与PGMEA，并正与多家日本光刻材料巨头洽谈供应事宜。
本文编译自海外媒体报道，由 SCI.AI 编辑团队整理发布。
